真空電鍍廠基本原理製造工藝不同，真空電鍍都是基於電反應原理，在帶有需鍍金屬離子的水溶液通以直流電源，使這些金屬離子在負極（工件）得到電子變為金屬，附著在鍍件上，即是鍍層，真空鍍都是基於物理氣相沉積基本原理，使需鍍金屬或金屬氧化物或鋁合金在超高真空下持續高溫氣化，附著在鍍件上；
真空電鍍和鍍膜的不同
機器設備不同，電鍍關鍵設備是直流電源、鍍槽等，真空鍍關鍵設備真空鍍膜設備（包括真空室、真空泵等）；常用原料不同，電鍍關鍵原料為各類化工原料和金屬材料，真空鍍關鍵原料為金屬、過渡金屬及鋁合金；應用領域和應用領域不同，
電鍍還可以在絕大多數金屬與非金屬中進行，主要運用於金屬防護、裝飾導電、耐磨等多功能性電鍍，真空鍍加工目標受限製，比如無法直接在鋼材件上鍍，真空鍍膜非常薄，並不像電鍍那般厚，但可以鍍得電鍍做不到的事情鍍層，如金黃色的氮化鈦、鋁等，用於耐蝕、耐磨、裝飾等場所，真空鍍由於受到真空室尺寸的限製，不可以鍍大型零件，比較之下，電鍍受此限定小很多；在安全方麵，真空鍍比電鍍電鍍工藝小的多。
